第270章 改進光刻機部件

 看來自己這段時間得在這邊多待一段時間了！

 以劉銘的智商，只要按部就班的學會了65nm的技術，很快就能自主設計出55nm的光刻機，甚至是45\/40nm的光刻機。

 這段時間，他對於那些基礎知識的光刻機已經有了足夠的理解。

 原本以為王蓉交給他的90nm光刻機技術資料只是入門級別，沒想到是接近天花板的級別。

 行吧！

 剛剛好這段時間他在90納米光刻機的技術上有了很多想法，或許這段時間可以試試，能不能直接開發出65nm的光刻機。

 對於65的nm的光刻機，劉銘還是有不少的感悟的。

 起碼他在資料中，就發現了很多可以優化的地方，甚至有部分劉銘能感覺到不合理。

 好在每次回家，劉銘都會帶上2身備用的衣服，也不回家了，劉銘直接在後勤領取了一套研究人員的專用的制式白色大褂。

 僅僅花費了半個小時，在王蓉的親自帶領下，劉銘很快就解決完了所有的雜事。

 進入到研究室，劉銘一開始並沒有動手，而是在觀察著其他科研人員的動作。

 足足在科研室遊離觀察了3個多小時，直到下班，劉銘才離開科研室。

 吃過一頓不算好吃的晚飯，劉銘呆在獨立的宿舍內，拿出了發放的紙和筆，開始記錄起今天他看到的與自己猜測上的問題。

 光刻機是一套極其複雜的器械，雖然劉銘發現的問題很多，但是對於這一整塊的流程，已經算是九牛一毛。

 畢竟一套光刻機，足足有40多萬個零件。

 一個團隊數十近百人，這裡足足有三個團隊。

 三個團隊互相競爭，也互相合作。

 每次有新的東西，都會讓其中一個團隊測試，確定沒有問題了，其他團隊才會跟著優化。

 次日，劉銘果斷跟著進度最慢的2組開始研究。

 直接發動了地位模式，劉銘直接接管了這個團隊。